日本首台 ASML EUV 光刻机下月中旬运抵：用于 Rapidus 晶圆厂试产

IT之家报道称，《日本经济新闻》指出，日本半导体代工企业 Rapidus 采购的首台ASML EUV光刻机计划于2024年12月中旬抵达北海道新千岁机场，成为日本首台EUV光刻设备。

据 Rapidus高管先前表示，这台光刻机为较早的0.33 NA型号，而非目前全球仅有不足10台的0.55 NA（High NA）型号。

整个空运过程将分批次进行，新千岁机场为这台对精度要求极高、不耐振动的设备重新铺设了路面；此外，ASML在千岁市设立了客户服务中心，以支持该系统的交付。

根据Rapidus的计划，公司将于2025年4月启动先进制程原型线，该产线将包括200余台设备，其中包括EUV光刻机。据当地政府透露，Rapidus的IIM-1晶圆厂截至上月底已完成63%的施工。

除Rapidus外，日本还有至少两家晶圆厂将引入先进的EUV光刻机：

美光1-gamma（也称为1c nm）制程DRAM内存需要采用EUV技术，美光广岛工厂计划在2025年内引入EUV光刻设备以备2026年量产；台积电旗下的JASM预定于2027年投产第二晶圆厂，该工厂包括6nm生产线，也需要EUV设备。

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