英特尔首批两台 ASML 高数值孔径光刻机已投产，可靠性翻倍

据IT之家报道，英特尔公司近日宣布其工厂已开始使用ASML公司的首批先进光刻机进行生产。初步数据显示，这些新型光刻机的可靠性优于之前的机型。

在加利福尼亚州圣何塞举行的一场会议上，英特尔高级首席工程师史蒂夫・卡森（Steve Carson）透露，英特尔已利用ASML的高数值孔径（NA）光刻机在短短一个季度内生产了30,000片晶圆，用于制造计算机芯片，每片晶圆可产出数千颗芯片。英特尔成为全球首家接收这些新型光刻机的芯片制造商，预计这些设备将生产出比之前ASML机器更小、更快的计算芯片。

先前，英特尔在采用上一代极紫外（EUV）光刻机方面落后于竞争对手，七年的时间才将旧款光刻机投入全面生产。这一过程中的可靠性问题使其失去对台积电的领先优势。

卡森表示，ASML新型高数值孔径（NA）光刻机的初步测试表明，其可靠性约为旧款机型的两倍。“我们能够以稳定的速率生产晶圆，这对整个平台来说是一大优势。”

此外，新型ASML光刻机可以在更少的曝光次数下完成与旧款机器相同的工作，从而节省时间和成本。卡森说，英特尔工厂的早期结果显示，高NA光刻机只需一次曝光和少量的处理步骤，即可完成旧款机器需要三次曝光和约40个处理步骤的工作。

英特尔计划运用高NA光刻机推动其18A制造技术的开发，该技术预计将与新一代PC芯片一同于今年晚些时候投入大规模生产。此外，英特尔还计划在其下一代制造技术14A中全面采用高NA光刻机，不过尚未公布该技术的大规模生产日期。

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