ASML 即将发货首台第二代 High NA EUV 光刻机 EXE:5200

IT之家最新消息显示，ASML总裁兼首席执行官Christophe Fouquet日前在公司2024年第四季度财报电话会议上透露，该公司即将发货首台第二代0.55（High）NA EUV光刻机TWINSCAN EXE:5200，用于技术成熟度验证。

据悉，EXE:5200是对现有初代High NA EUV光刻机EXE:5000进行的改进款。Christophe Fouquet称，这款新型号更适合大规模生产。而EXE:5000最初版本主要用于High NA EUV光刻技术的开发。

根据ASML光刻系统的迭代规律，EXE:5200预计将拥有更高的晶圆吞吐量（EXE:5000为每小时185片以上），并支持更加精细的后2nm逻辑半导体工艺。

同时，Christophe Fouquet还提及，其0.33（Low）NA EUV光刻机最新型号NXE:3800E在工厂实现了每小时220片的设计晶圆吞吐量。与前一代NXE:3600D相比，该数字提高了37.5%，充分展示了结构改进所带来的优势。

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